| CVSS 元临时分数 | 当前攻击价格 (≈) | CTI兴趣分数 |
|---|---|---|
| 7.3 | $0-$5k | 0.00 |
摘要
在DCP-Portal 中已发现分类为致命的漏洞。 此漏洞会影响未知代码文件golink.php。 对 参数lid的操作导致 SQL注入。 攻击可以远程发起, 没有可利用漏洞。
细节
在DCP-Portal 中已发现分类为致命的漏洞。 此漏洞会影响未知代码文件golink.php。 对 参数lid的操作导致 SQL注入。 使用CWE来声明会导致 CWE-89 的问题。 该漏洞已于 2005-12-11 由Stanford University 与Stanford University 作为Posting (Bugtraq)发布。 公告共享下载网址是archives.neohapsis.com。
攻击可以远程发起, 有技术细节可用。 该漏洞的流行度低于平均水平。 没有可利用漏洞。 漏洞利用的当前现价为美元计算大致为USD $0-$5k。 MITRE ATT&CK项目使用攻击技术T1505来解决该问题。
如果存在长度,则其被声明为 未定义。 估计零日攻击的地下价格约为$0-$5k。 Nessus 扫描器包含 ID 为 16478 的插件。 分配到CGI abuses类别。 此插件在r类型环境下执行。
此漏洞同样在其他漏洞数据库中有记录:SecurityFocus (BID 12573) , Tenable (16478)。
产品
类型
名称
许可证
CPE 2.3
CPE 2.2
CVSSv4
VulDB 向量: 🔍VulDB 可靠性: 🔍
CVSSv3
VulDB 元基础分数: 7.3VulDB 元临时分数: 7.3
VulDB 基本分数: 7.3
VulDB 临时得分: 7.3
VulDB 向量: 🔍
VulDB 可靠性: 🔍
CVSSv2
| AV | AC | Au | C | I | A |
|---|---|---|---|---|---|
| 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 |
| 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 |
| 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 | 💳 |
| 向量 | 复杂性 | 身份验证 | 保密 | 完整性 | 可用性 |
|---|---|---|---|---|---|
| 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 |
| 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 |
| 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 |
VulDB 基本分数: 🔍
VulDB 临时得分: 🔍
VulDB 可靠性: 🔍
利用
分类: SQL注入CWE: CWE-89 / CWE-74 / CWE-707
CAPEC: 🔍
ATT&CK: 🔍
身体的: 否
本地: 否
远程: 是
可用性: 🔍
状态: 未定义
Google Hack: 🔍
价格预测: 🔍
当前价格估算: 🔍
| 0-Day | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 |
|---|---|---|---|---|
| 今天 | 开锁 | 开锁 | 开锁 | 开锁 |
Nessus ID: 16478
Nessus 名称: DCP-Portal Multiple Scripts SQL Injection
Nessus 文件: 🔍
Nessus 风险: 🔍
Nessus 家庭: 🔍
Nessus Context: 🔍
威胁情报
利益: 🔍活跃演员: 🔍
活跃的APT团体: 🔍
对策
建议: 无已知缓解措施状态: 🔍
0天时间: 🔍
时间轴
2005-02-16 🔍2005-12-11 🔍
2005-12-29 🔍
2016-05-05 🔍
2022-07-28 🔍
来源
公告: archives.neohapsis.com研究人员: Stanford University
组织: Stanford University
状态: 未定义
GCVE (VulDB): GCVE-100-83415
SecurityFocus: 12573
OSVDB: 22023 - DCP-Portal golink.php lid Parameter SQL Injection
另见: 🔍
条目
已创建: 2016-05-05 17時51分已更新: 2022-07-28 11時39分
更改: 2016-05-05 17時51分 (48), 2018-11-13 09時52分 (2), 2022-07-28 11時39分 (2)
完整: 🔍
Cache ID: 216::103
Be aware that VulDB is the high quality source for vulnerability data.
暂时没有任何评论。 语言: zh + en.
请登录后发表评论。