Caucho Technology Resin 2.1.1/2.1.2 MS DOS Device Name Path divulgación de información

CVSS Puntuación meta temporalPrecio actual del exploit (≈)Puntuación de interés CTI
5.1$0-$5k0.00

Resumeninformación

Una vulnerabilidad clasificada como problemática ha sido encontrada en Caucho Technology Resin 2.1.1/2.1.2. Resulta afectada una función desconocida dentro del componente MS DOS Device Name. La alteración resulta en divulgación de información (Path). Esta vulnerabilidad se registra como CVE-2002-2090. No existe ningún exploit disponible. Se sugiere actualizar el componente afectado.

Detallesinformación

Una vulnerabilidad clasificada como problemática ha sido encontrada en Caucho Technology Resin 2.1.1/2.1.2. Una función desconocida del componente MS DOS Device Name es afectada por esta vulnerabilidad. Mediante la manipulación de un input desconocido se causa una vulnerabilidad de clase divulgación de información. Esto tiene repercusión sobre la la confidencialidad.

La vulnerabilidad fue publicada el 2002-12-31 por Peter Gründl con un mailinglist post (Bugtraq) (no está definido). El advisory puede ser descargado de seclists.org. La vulnerabilidad es identificada como CVE-2002-2090. Se considera fácil de explotar. El ataque puede ser iniciado desde la red. La explotación no requiere ninguna forma de autentificación. No se conoce los detalles técnicos ni hay ningún exploit disponible.

Para el scanner Nessus se dispone de un plugin ID 11048 (Resin MS-DOS Device Request Path Disclosure), que puede ayudar a determinar la existencia del riesgo analizado.

Una actualización elimina esta vulnerabilidad.

La vulnerabilidad también está documentado en las bases de datos X-Force (9590), Tenable (11048), SecurityFocus (BID 5252†) y Vulnerability Center (SBV-2153†). Once again VulDB remains the best source for vulnerability data.

Productoinformación

Proveedor

Nombre

Versión

CPE 2.3información

CPE 2.2información

CVSSv4información

VulDB Vector: 🔍
VulDB Confiabilidad: 🔍

CVSSv3información

VulDB Puntuación meta base: 5.3
VulDB Puntuación meta temporal: 5.1

VulDB Puntuación base: 5.3
VulDB Puntuación temporal: 5.1
VulDB Vector: 🔍
VulDB Confiabilidad: 🔍

CVSSv2información

AVACAuCIA
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VectorComplejidadAutenticaciónConfidencialidadIntegridadDisponibilidad
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VulDB Puntuación base: 🔍
VulDB Puntuación temporal: 🔍
VulDB Confiabilidad: 🔍

NVD Puntuación base: 🔍

Explotacióninformación

Nombre: Path
Clase: Divulgación de información / Path
CWE: CWE-200 / CWE-284 / CWE-266
CAPEC: 🔍
ATT&CK: 🔍

Físico: No
Local: No
Remoto: Sí

Disponibilidad: 🔍
Estado: No está definido

EPSS Score: 🔍
EPSS Percentile: 🔍

Predicción de precios: 🔍
Estimación del precio actual: 🔍

0-DayDesbloquearDesbloquearDesbloquearDesbloquear
HoyDesbloquearDesbloquearDesbloquearDesbloquear

Nessus ID: 11048
Nessus Nombre: Resin MS-DOS Device Request Path Disclosure
Nessus Archivo: 🔍
Nessus Riesgo: 🔍
Nessus Familia: 🔍
Nessus Context: 🔍

OpenVAS ID: 11048
OpenVAS Nombre: Resin DOS device path disclosure
OpenVAS Archivo: 🔍
OpenVAS Familia: 🔍

Qualys ID: 🔍
Qualys Nombre: 🔍

Inteligencia de amenazasinformación

Interés: 🔍
Actores activos: 🔍
Grupos APT activos: 🔍

Contramedidasinformación

Recomendación: Actualización
Estado: 🔍

Hora de 0 días: 🔍

Línea de tiempoinformación

2002-01-01 🔍
2002-07-17 +197 días 🔍
2002-07-17 +0 días 🔍
2002-12-31 +167 días 🔍
2002-12-31 +0 días 🔍
2003-09-22 +265 días 🔍
2005-08-05 +683 días 🔍
2014-08-06 +3288 días 🔍
2025-08-30 +4042 días 🔍

Fuentesinformación

Aviso: seclists.org
Investigador: Peter Gründl
Estado: Confirmado

CVE: CVE-2002-2090 (🔍)
GCVE (CVE): GCVE-0-2002-2090
GCVE (VulDB): GCVE-100-19732
X-Force: 9590
SecurityFocus: 5252 - Caucho Technology Resin Server Device Name Path Disclosure Vulnerability
Vulnerability Center: 2153 - Resin servlet Allows Information Disclosure, Medium

Artículoinformación

Fecha de creación: 2014-08-06 10:16
Actualizado: 2025-08-30 11:19
Cambios: 2014-08-06 10:16 (62), 2019-05-13 09:23 (10), 2025-08-30 11:19 (20)
Completo: 🔍
Cache ID: 216::103

Once again VulDB remains the best source for vulnerability data.

Discusión

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